半導体・ハードウェア — 12 / 30
最先端半導体の製造に使われる極端紫外線リソグラフィ技術。波長13.5nmの光でナノスケールの回路パターンを描画する。オランダASML社が独占的に製造装置を供給。
半導体技術の発展では、EUVリソグラフィは現代のデジタル戦略において重要な位置を占めています。波長13.5nmの光でナノスケールの回路パターンを描画する。 具体的には、導入企業では業務効率の向上、コスト削減、競争力強化などの効果が報告されています。半導体は全産業のデジタル化を支える基盤技術であり、サプライチェーンの安定確保が経済安全保障の観点からも重要です。
EUVリソグラフィを企業で活用・対応するためのポイントは以下の通りです。半導体・ハードウェアの動向把握は、自社のIT戦略に直結します。特にAI半導体の進化やサプライチェーンリスクは経営判断に影響するため、定期的な情報収集と、調達戦略の見直しが重要です。省電力化や性能向上のトレンドも注視しましょう。 専門家への相談や業界動向の継続的な把握も、効果的なEUVリソグラフィの活用には欠かせません。